特許

J-GLOBAL ID：200903017889203450

耐摩耗性非晶質硬質膜及びその製造方法

発明者： 増本 健 ,  井上 明久 ,  山形 寛
出願人/特許権者： 増本 健 ,  井上 明久 ,  ワイケイケイ株式会社
代理人 (1件)： ▲吉▼田 繁喜
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-068215
公開番号（公開出願番号）：特開平6-322517
出願日： 1994年03月14日
公開日（公表日）： 1994年11月22日
要約：

【要約】【目的】 緻密で基材に対する密着性に優れ、折り曲げに強く、高い硬度を示す耐摩耗性非晶質硬質膜を比較的簡単な工程で形成する。【構成】 一般式:Ala Mb (ここで、MはTi,Ta,V,Cr,Zr,Nb,Mo,Hf,W,Fe,Co,Ni,Cu及びMnよりなる群から選ばれた少なくとも1種の元素、a及びbはそれぞれ原子%を示し、60at%≦a≦98.5at%、1.5at%≦b≦40at%、但し、a+b=100at%)で表わされる組成を有する蒸発源材料を用い、窒素、酸素又は炭素系反応ガスを供給しながら、スパッタ法又はイオンプレーティング法などの物理的気相蒸着法により所定量の反応ガスを含む不活性ガス雰囲気中で基材上に非晶質膜を形成する。

請求項（抜粋）：

一般式:(Al<SB>a</SB> M<SB>b</SB> )<SB>100-c</SB> X<SB>c</SB> (ここで、MはTi,Ta,V,Cr,Zr,Nb,Mo,Hf,W,Fe,Co,Ni,Cu及びMnよりなる群から選ばれた少なくとも1種の元素、XはN,O,Cよりなる群から選ばれた1種の元素、a、b及びcはそれぞれ原子%を示し、60at%≦a≦98.5at%、1.5at%≦b≦40at%、0at%<c≦65at%、但し、a+b=100at%)で表わされる組成を有し、非晶質構造を示し、かつ高い硬度を有する耐摩耗性非晶質硬質膜。

IPC (2件)：

C23C 14/06 ,  C23C 14/34

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開平2-194159
  
• 特開平1-252766
  
• 特開平4-131367