特許
J-GLOBAL ID：200903017898933445
基板処理装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
渡邉 勇
, 堀田 信太郎
, 小杉 良二
, 森 友宏
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-327753
公開番号（公開出願番号）：特開2005-093873
出願日： 2003年09月19日
公開日（公表日）： 2005年04月07日
要約：
【課題】半導体デバイスに導入される新たな材料や製造プロセスに対応した洗浄効果を奏することができ、しかも、半導体デバイスの微細化及び高集積化が進むに従って今後ますます高まると予想される洗浄技術に対するニーズにも対応し得る多目的な基板処理装置を提供する。【解決手段】処理液2を基板W上に供給する処理液供給源27と、マイクロバブルを処理液中に生成するマイクロバブル生成器28と、マイクロバブルを含んだ処理液2に超音波を照射する超音波振動子20とを備えた。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
処理液を基板上に供給する処理液供給源と、
マイクロバブルを処理液中に生成するマイクロバブル生成器と、
マイクロバブルを含んだ処理液に超音波を照射する超音波振動子とを備えたことを特徴とする基板処理装置。
IPC (2件)：
FI (3件)：
H01L21/304 643A
, H01L21/304 643D
, H01L21/30 572B
