特許
J-GLOBAL ID：200903017925861249
疎水性基板洗浄用液体組成物
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (3件)：
金田 暢之
, 伊藤 克博
, 石橋 政幸
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-348204
公開番号（公開出願番号）：特開2004-182773
出願日： 2002年11月29日
公開日（公表日）： 2004年07月02日
要約：
【課題】疎水性表面が露出する基板表面に付着したパーティクル及び金属系不純物を効果的に除去可能な洗浄用液体組成物を提供する。【解決手段】水滴の接触角が60度以上である表面領域を有する基板の洗浄に用いられる液体組成物において、一分子中に2つ以上のホスホン酸基を有するホスホン酸系キレート剤と、ポリオキシアルキレンアルキルエーテル型の非イオン界面活性剤とを含有させ、当該液体組成物あるいはその希釈水溶液の液滴の前記表面領域に対する接触角が50度以下となるように調製する。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
水滴の接触角が60度以上である表面領域を有する基板の洗浄に用いられる液体組成物であって、
一分子中に2つ以上のホスホン酸基を有するホスホン酸系キレート剤と、ポリオキシアルキレンアルキルエーテル型の非イオン界面活性剤とを含有し、
当該液体組成物あるいはその希釈水溶液の液滴の前記表面領域に対する接触角が50度以下となる疎水性基板洗浄用液体組成物。
IPC (4件)：
C11D17/08
, C11D1/72
, C11D3/36
, H01L21/304
C11D17/08
, C11D1/72
, C11D3/36
, H01L21/304 622Q
, H01L21/304 647A
, H01L21/304 647B
4H003AA03
, 4H003AC08
, 4H003AC09
, 4H003DA15
, 4H003EB24
, 4H003FA07
, 4H003FA21
, 4H003FA28
