特許
J-GLOBAL ID:200903017926145768

レーザ光の吸収率向上方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 森本 義弘
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-040351
公開番号(公開出願番号):特開平6-246477
出願日: 1993年03月02日
公開日(公表日): 1994年09月06日
要約:
【要約】【目的】 溶接や表面処理など金属加工の分野や、電子部品や半導体などを加熱する熱処理の分野において、レーザ光を吸収する塗料を被処理材料に塗布することなく、加工処理や熱処理する被処理材料にレーザ光を吸収させて被処理材料を処理する。【構成】 レーザ光により所定の処理を行う際に被処理材料の表面粗度を0.2λ〜1.0λ(λはレーザ光の波長μm)の凹凸を設けて調節する。
請求項(抜粋):
レーザ光により所定の処理を行う際に被処理材料の表面粗度を0.2λ〜1.0λ(λはレーザ光の波長μm)に調整するレーザ光の吸収率向上方法。
IPC (3件):
B23K 26/18 ,  B23K 26/00 ,  B23K 26/00 310
引用特許:
審査官引用 (1件)
  • 特開平4-344887

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