特許
J-GLOBAL ID：200903017929154687
低分子量キトサンの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
吉田 勝広 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-035905
公開番号（公開出願番号）：特開平8-208708
出願日： 1995年02月02日
公開日（公表日）： 1996年08月13日
要約：
【要約】【目的】 キトサンを効率良く低分子量化でき、且つ低分子量化の程度を簡便に調節できる方法を提供すること。【構成】 キトサンを低分子量化するに際し、キトサンを液媒体中に分散させ、次亜臭素酸、亜臭素酸、臭素酸及びこれらの塩から選ばれる少なくとも一種の化合物によって低分子量化することを特徴とする低分子量キトサンの製造方法。
請求項（抜粋）：
キトサンを液媒体中に分散させ、次亜臭素酸、亜臭素酸、臭素酸及びこれらの塩から選ばれる少なくとも一種の酸化剤で処理するすることを特徴とする低分子量キトサンの製造方法。
引用特許：
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