特許

J-GLOBAL ID：200903017954050284

レジスト用ポリマーの製造方法、およびポジ型感放射線性組成物

発明者： 妹尾 将秀 ,  田村 一貴 ,  仁王 宏之
出願人/特許権者： 東レ株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-110088
公開番号（公開出願番号）：特開2003-301006
出願日： 2002年04月12日
公開日（公表日）： 2003年10月21日
要約：

【要約】【課題】 高感度、高解像度、および環境の影響を受けにくい特性を併せ持つレジスト用ポリマーの製造方法、および低露光量で良好な形状の微細パターン加工が可能なポジ型感放射線性組成物を提供する。【解決手段】窒素原子を少なくとも1個含有する連鎖移動剤を添加してモノマーを重合することを特徴とするレジスト用ポリマーの製造方法、およびこの方法で製造され、且つ酸の作用でアルカリ可溶となるポリマーと、放射線の照射によって酸を発生する酸発生剤を含有するポジ型感放射線性組成物。

請求項（抜粋）：

窒素原子を少なくとも1個含有する連鎖移動剤を添加してモノマーを重合することを特徴とするレジスト用ポリマーの製造方法。

IPC (4件)：

C08F 2/38 ,  C08F 20/10 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/027

FI (4件)：

C08F 2/38 ,  C08F 20/10 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/30 502 R

Fターム (42件)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BG00 ,  2H025BJ10 ,  2H025FA03 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  4J011HA04 ,  4J011NA24 ,  4J011NA25 ,  4J011NB04 ,  4J011NB06 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL26P ,  4J100BA02P ,  4J100BA03P ,  4J100BA05P ,  4J100BA11Q ,  4J100BA20P ,  4J100BA40P ,  4J100BB01P ,  4J100BB03P ,  4J100BB18P ,  4J100BC43P ,  4J100BC49P ,  4J100BC53P ,  4J100BC53Q ,  4J100CA01 ,  4J100CA03 ,  4J100DA01 ,  4J100FA03 ,  4J100FA04 ,  4J100FA19 ,  4J100HA08 ,  4J100JA38