特許
J-GLOBAL ID：200903017964988434
X線マスク及びX線マスクの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高田 守
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-147087
公開番号（公開出願番号）：特開平5-343299
出願日： 1992年06月08日
公開日（公表日）： 1993年12月24日
要約：
【要約】【目的】 内部応力が低く、高精度なパターン形成に適したX線吸収体、及びそのようなX線吸収体を成膜する方法を提供する。【構成】 X線マスクのX線吸収体を、タングステンに窒素、もしくはタングステンにチタンと窒素が含有され、かつアモルファス状の構造のものとする。
請求項（抜粋）：
X線吸収体として、タングステンに窒素もしくはタングステンにチタンと窒素が含有され、アモルファス状の構造であることを特徴とするX線マスク。
IPC (4件)：
H01L 21/027
, C23C 14/14
, C23C 14/34
, H01L 21/285
