ガス噴射による表面処理方法および表面処理装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：木村高久
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-134467
公開番号（公開出願番号）：特開平8-000990
出願日： 1994年06月16日
公開日（公表日）： 1996年01月09日
要約：

【要約】【目的】薄膜処理等の表面処理の品質向上と作業効率の向上を図る。【構成】被処理対象15の表面に噴射すべきガス6が、加熱手段5によって加熱、プラズマ化され、高反応性状態(励起状態、活性状態)となる。そして、加熱、プラズマ化されたガスがラバールノズル1によって断熱膨張されて音速よりも大きい流速にされる。そして、この音速よりも大きい流速にされたガス7が被処理対象15の表面に向けて噴射される。こうして、加熱、プラズマ化され高反応性状態となったガス7が、噴射対象である被処理対象15まで超音速で短時間内に到達する。

請求項（抜粋）：

被処理対象の表面にガスを噴射することにより前記被処理対象の表面処理を行うガス噴射による表面処理方法において、前記被処理対象の表面に噴射すべきガスを加熱、プラズマ化する工程と、前記加熱、プラズマ化されたガスを断熱膨張させて音速よりも大きい流速にする工程と、前記音速よりも大きい流速にされたガスを前記被処理対象の表面に向けて噴射させる工程とを具えたガス噴射による表面処理方法。

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