特許
J-GLOBAL ID：200903017978725258
トリチウム除染装置とその方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高田 幸彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-360207
公開番号（公開出願番号）：特開2005-127718
出願日： 2003年10月21日
公開日（公表日）： 2005年05月19日
要約：
【課題】 本発明の目的は、トリチウムに汚染された金属及び非金属からなる処理材料を安全かつ短時間に除染するトリチウム除染装置とその方法を提供することにある。 【解決手段】 本発明は、トリチウムに汚染された処理材料をガス雰囲気中で除染しトリチウムを回収するトリチウム除染装置において、処理材料を収納しガスを封入及び密閉可能な加熱容器と、処理材料を高周波誘導加熱する高周波誘導加熱部と、処理材料をマイクロ波加熱するマイクロ波加熱部と、加熱容器内のガスを循環し処理材料から加熱容器内に放出されたトリチウムを回収するトリチウム回収部と、高周波誘導加熱部とマイクロ波加熱部との切替及び加熱温度を制御する制御部とを有することを特徴とするトリチウム除染装置にある。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
トリチウムに汚染された処理材料をガス雰囲気中で除染し前記トリチウムを回収するトリチウム除染装置において、前記処理材料を収納しガスを封入及び密封可能な加熱容器と、該加熱容器にガスを供給するガス供給部と、前記処理材料を高周波誘導加熱する高周波加熱部と、前記処理材料をマイクロ波加熱するマイクロ波加熱部と、前記処理材料から前記加熱容器内に放出されたトリチウムを回収するトリチウム回収部と、前記高周波加熱部とマイクロ波加熱部との切替及び加熱温度の制御を行なう制御部とを有することを特徴とするトリチウム除染装置。
IPC (3件)：
G21F9/28
, G21F9/02
, G21F9/06
G21F9/28 501Z
, G21F9/02 511P
, G21F9/02 541H
, G21F9/06 591
