基板型抵抗・温度ヒュ-ズ

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：松月美勝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-165901
公開番号（公開出願番号）：特開平8-007731
出願日： 1994年06月24日
公開日（公表日）： 1996年01月12日
要約：

【要約】【目的】トリミングにより調整した膜抵抗の抵抗値を、課電のオン,オフを繰り返しても、充分一定に保持できる基板型抵抗・温度ヒュ-ズを提供する。【構成】セラミック基板1上に低融点金属体4と膜抵抗6とを設け、該膜抵抗6は、抵抗ぺ-ストの印刷・焼付けにより形成した膜抵抗体60を第1のガラス層61で被覆したのち、レ-ザ-トリミングで抵抗値調整することにより設け、この膜抵抗上に第2のガラス層62を設け、該膜抵抗と上記の低融点金属体とを覆って上記セラミック基板に樹脂7を被覆した。

請求項（抜粋）：

セラミック基板上に低融点金属体と膜抵抗とを設け、該膜抵抗は、抵抗ぺ-ストの印刷・焼付けにより形成した膜抵抗体を第1のガラス層で被覆したのち、レ-ザ-トリミングで抵抗値調整することにより設け、この膜抵抗上に第2のガラス層を設け、該膜抵抗と上記の低融点金属体とを覆って上記セラミック基板に樹脂を被覆したことを特徴とする基板型抵抗・温度ヒュ-ズ。

引用特許：

審査官引用 (2件)

特開昭59-008302
特開昭59-008302

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