特許
J-GLOBAL ID：200903017994903212
シャドウマスク及び蒸着方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
重野 剛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-103339
公開番号（公開出願番号）：特開平10-298738
出願日： 1997年04月21日
公開日（公表日）： 1998年11月10日
要約：
【要約】【課題】 蒸着パターンの幅や位置ずれが小さく、基板上に蒸着膜を精度良く形成できるシャドウマスクを提供する。シャドウマスクの機械的強度を損なうことなく、微細な蒸着パターンを形成する。このようなシャドウマスク及び蒸着方法により、微細な有機電界発光素子を精度良く作製する。【解決手段】 スリット1Aの内周壁面のうち少なくとも蒸着源側は、蒸着源側ほどスリット幅が拡大する方向にシャドウマスク板面に対して傾斜している蒸着用シャドウマスク1。蒸着膜を形成した後、シャドウマスクをスリットの配列方向に位置を変えて蒸着処理し、既に形成された蒸着膜同士の間に蒸着膜を形成する。
請求項（抜粋）：
基板と蒸着源との間に基板に沿って配置される蒸着処理用シャドウマスクであって、複数の開孔を有した薄板状のシャドウマスクにおいて、該開孔の内周壁面のうち少なくとも蒸着源側は、蒸着源側ほど開孔幅が拡大する方向にシャドウマスク板面に対して傾斜していることを特徴とするシャドウマスク。
IPC (2件)：
FI (2件)：
C23C 14/04 A
, H05B 33/10
