特許

J-GLOBAL ID：200903018030693754

走査露光方法および走査型露光装置ならびにデバイスの製造方法

発明者： 橋本 豪之
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 志賀 正武 (外5名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-205446
公開番号（公開出願番号）：特開2000-100721
出願日： 1999年07月19日
公開日（公表日）： 2000年04月07日
要約：

【要約】【課題】マスクと基板との同期精度を従来どおり維持したまま、スループットの向上を図ることを目的とする。【解決手段】ウエハ(基板)Wとレチクル(マスク)Rとを同期移動させることによりレチクルRのパターンをウエハWの各ショット領域31,32に順次転写する走査露光方法において、ウエハWの移動を制御する主制御系13、ウエハステージ17及びウエハステージ制御系(基板移動制御系)の応答特性、及びレチクルRの移動を制御する主制御系13、レチクルステージ11及びレチクルステージ制御系27(マスク移動制御系)の応答特性のうち少なくとも一方を、露光区間38と、露光区間38以外の移動区間34および加速区間36(非露光区間)とで変更することを特徴とする。

請求項（抜粋）：

基板とマスクとを同期して移動させることにより、マスクのパターンを前記基板上に転写する走査露光方法であって、前記パターンを転写しながら前記基板および前記マスクを移動させる露光ステップと、前記露光ステップ以外で前記基板および前記マスクを移動させる非露光ステップと、前記基板の移動を制御する基板移動制御系の応答特性、および前記マスクの移動を制御するマスク移動制御系の応答特性のうち少なくとも一方を、前記露光ステップで用いる第1の特性と前記非露光ステップで用いる第2の特性とで切り替えるステップと、を備えることを特徴とする走査露光方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/22

FI (3件)：

H01L 21/30 518 ,  G03F 7/22 H ,  H01L 21/30 516 B