特許
J-GLOBAL ID：200903018057997194
パターン化用マスク
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-308281
公開番号（公開出願番号）：特開平7-159982
出願日： 1993年12月08日
公開日（公表日）： 1995年06月23日
要約：
【要約】【構成】 基板にパターンを形成するためのマスクであって、パターン化される部分が基板と接触しない隙間のある形状を有することを特徴とするパターン化用マスク。【効果】 パターン境界にキズが発生する欠点がなくなり、スパークが発生する欠点がなくなり、かつパターンがニジム欠点もなくなる。
請求項（抜粋）：
基板にパターンを形成するためのマスクであって、パターン化される部分が基板と接触しない隙間のある形状を有することを特徴とするパターン化用マスク。
IPC (4件)：
G03F 1/14
, B05B 15/04 102
, B05C 17/06
, H01L 21/027
