特許
J-GLOBAL ID：200903018061714296
フレキソ印刷版工程
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
青山 葆 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-186226
公開番号（公開出願番号）：特開平5-019469
出願日： 1991年07月25日
公開日（公表日）： 1993年01月29日
要約：
【要約】 (修正有)【目的】 光照射硬化性ポリウレタンエラストマー組成物で調製されるフレキソ印刷版の製造方法を提供する。【構成】 少なくとも片面上に少なくとも厚さ0.3mmの照射硬化性組成物を有する可撓性基体を有するレリーフ画像形成可能材料を提供する工程、上記組成物を画像に応じて照射することにより照射領域において上記組成物を硬化させる工程、上記画像に応じて照射された層と40〜200°Cに加熱された非照射組成物を吸収可能な吸収層とを接触させる工程、吸収層と接触させた状態で上記組成物層を非照射領域において上記組成物を上記吸収層に流入させるのに十分な高温である40〜200°Cの温度に加熱する工程、吸収層に接触した非照射領域における上記組成物の少なくとも75%を吸収層に吸収させる工程、そして、吸収層を除去することにより上記可撓性基体上の非照射領域から組成物の少なくとも75%を除去する工程、によりフレキソ印刷版を製造する。
請求項（抜粋）：
少なくとも片面上に少なくとも厚さ0.3mmの照射硬化性組成物を有する可撓性基体を有するレリーフ画像形成可能材料を提供する工程、該組成物を画像に応じて照射することにより照射領域において該組成物を硬化させる工程、該画像に応じて照射された層と40〜200°Cに加熱された非照射組成物を吸収可能な吸収層とを接触させる工程、吸収層と接触させた状態で該組成物層を非照射領域において該組成物を該吸収層に流入させるのに十分な高温である40〜200°Cの温度に加熱する工程、吸収層に接触した非照射領域における該組成物の少なくとも75%を吸収層に吸収させる工程、そして、吸収層を除去することにより該可撓性基体上の非照射領域から組成物の少なくとも75%を除去する工程、を包含するフレキソ印刷版の製造方法。
IPC (3件)：
G03F 7/027 513
, G03F 7/00 502
, G03F 7/26 521
