特許
J-GLOBAL ID：200903018070861188
合焦点位置検出方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
石原 勝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-189573
公開番号（公開出願番号）：特開平7-045504
出願日： 1993年07月30日
公開日（公表日）： 1995年02月14日
要約：
【要約】【目的】 照明装置の光量変化などにより大局的な濃度変動があっても、複雑なアルゴリズムを必要とすることなく、対象物の光学系に対する合焦点位置を高精度に検出する。【構成】 部分画像を設定する工程と、注目画素に対して特定方向線上に左右領域を設定する工程と、左右領域における各画素についての濃度データをそれぞれ一定方法で演算する工程と、左右領域の演算結果の比を濃淡比として求める工程と、濃淡比演算工程を領域内で繰り返して累積濃淡比を求める工程を行い、対象物の光学的位置を変化させてこれら手順を繰り返して合焦点位置を求める。
請求項（抜粋）：
光学系に対して合焦されるべき対象物を含む量子化された2次元画像データをその光学系を通して撮像することによって得る工程と、この2次元画像データ内に所定領域を設定する工程と、所定領域内の注目画素とその特定方向線上の周辺の画素とからなる部分画像を設定する部分画像設定工程と、注目画素に対し特定方向線上の左右に左領域と右領域を設定する左右領域設定工程と、左領域の各画素の濃度データを左領域用に設定した一定方法で演算する左領域演算工程と、右領域の各画素の濃度データを右領域用に設定した一定方法で演算する右領域演算工程と、左、右領域演算工程の演算結果の比を濃淡比として求める濃淡比演算工程と、濃淡比演算工程を所定領域内で繰り返して濃淡比を用いた評価関数を演算する工程と、対象物の光学的位置を変化させて上記工程を繰り返すことによって各光学的位置における複数の評価関数演算値を求める工程と、その結果に基づき対象物の光学系に対する合焦点位置を得る工程とを備えたことを特徴とする合焦点位置検出方法。
IPC (4件)：
H01L 21/027
, G02B 7/28
, G03F 7/207
, G03F 9/02
H01L 21/30 526 A
, G02B 7/11 M
