特許

J-GLOBAL ID：200903018073009601

ペースト塗布装置

発明者： 原田 忠克
出願人/特許権者： 株式会社リコー
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-173295
公開番号（公開出願番号）：特開平11-008499
出願日： 1997年06月13日
公開日（公表日）： 1999年01月12日
要約：

【要約】【課題】 ワーク支持機構に用いるステージに、新たに、傾斜角度を付けることが可能な傾斜ステージを用い、ワークを傾斜した状態で塗布を行うようにして位置決めを簡略化する。【解決手段】 高精度位置決め駆動が可能な(X軸13、Y軸12、θ軸11の3軸)ステージで構成されたワーク支持機構と、Z軸移動機構7に支持され、かつ、角度を自由に設置できるブラケット6で支持されたニードル付帯シリンジ3とからなり、ワーク位置検出機構にCCDカメラ1による画像処理を用いる。前記ワーク支持機構のステージであるX,Y,θの3軸のステージ構成に、傾斜角度を付けることが可能な傾斜ステージを設け、対象ワークを傾斜方向に駆動して該ワークに傾きをもたせ、前記CCDカメラを直線駆動の1軸ステージにて駆動しながら動画像処理を行う。

請求項（抜粋）：

高精度位置決め駆動が可能なX軸、Y軸、及び、θ軸の3軸ステージで構成されたワーク支持機構と、Z軸移動機構に支持され、かつ、角度を自由に設置できるブラケットで支持されたニードル付帯シリンジとからなり、ワーク位置検出機構にCCDカメラによる画像処理を用いたペースト塗布装置において、前記ワーク支持機構のステージであるX,Y,θの3軸のステージ構成に、傾斜角度を付けることが可能な傾斜ステージを有することを特徴とするペースト塗布装置。

IPC (3件)：

H05K 13/04 ,  H05K 3/32 ,  H05K 13/08

FI (3件)：

H05K 13/04 Z ,  H05K 3/32 B ,  H05K 13/08 B