特許

J-GLOBAL ID：200903018073479454

露光装置、デバイスの製造方法

発明者： 三上 晃司
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (2件)： 西山 恵三 ,  内尾 裕一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-401086
公開番号（公開出願番号）：特開2005-166778
出願日： 2003年12月01日
公開日（公表日）： 2005年06月23日
要約：

【課題】 投影系の組立時には、ランダムな歪曲収差が残存している事が想定されるが、この歪曲収差を抑えるのは大変困難である。【解決手段】 反射型マスク上に形成されたパターンを基板上に投影する投影光学系を有する投影露光装置であって、前記投影光学系が複数の反射光学素子を有しており、前記複数の反射光学素子のうち前記パターンで反射した光束が初めに入射する反射光学素子が実質的に平面ミラーであることを特徴とする露光装置。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

反射型マスクを用いて、マスク上のパターンを投影光学系を介して基板上に転写する投影露光装置で、 前記投影光学系が反射光学系であり、 前記マスクを保持するマスクステージと、前記基板を保持する基板ステージが前記投影光学系の縮小倍率に比例した速度で同期制御されながら露光していく、同期制御システムを持ち、投影光学系の第一面にあたる、前記マスクパターンで反射した光束が初めに照射されるミラーが実質的に平面ミラーをなす事を特徴とする露光方法、及び装置。

IPC (5件)：

H01L21/027 ,  G03F7/20 ,  G21K1/06 ,  G21K5/00 ,  G21K5/02

FI (6件)：

H01L21/30 531E ,  G03F7/20 503 ,  G21K1/06 B ,  G21K1/06 M ,  G21K5/00 Z ,  G21K5/02 X

Fターム (12件)：

2H097AA02 ,  2H097BA02 ,  2H097BA06 ,  2H097CA06 ,  2H097CA15 ,  2H097LA10 ,  5F046GA03 ,  5F046GA06 ,  5F046GA14 ,  5F046GA18 ,  5F046GB01 ,  5F046GD10

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 特開11-219900号公報