特許

J-GLOBAL ID：200903018075218283

ラミネート装置

発明者： 横山 康弘
出願人/特許権者： 株式会社富士電機総合研究所
代理人 (1件)： 篠部 正治
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-191483
公開番号（公開出願番号）：特開2000-015697
出願日： 1998年07月07日
公開日（公表日）： 2000年01月18日
要約：

【要約】【課題】ラミネート前の加熱を防ぎ、波打ちや気泡などが発生せず、小型化されたラミネート装置を提供する。【解決手段】下面が平面である熱板5を内部に有する上部真空容器2と、伸縮性シート7が開口部に張架され、内部が下部真空室となる上部真空容器1とを有するラミネート装置であって、前記両真空容器が被ラミネートシート24を挟んで閉じられたとき伸縮性シートを境界として上部真空室および下部真空室の2つの真空室が構成され、上部真空室を減圧してこれらの真空室に圧力差をつけたときのみ伸縮性シートが膨張し、被ラミネートシートを伸縮性シートにより熱板に押しつけ加圧および加熱してラミネートする。

請求項（抜粋）：

下面が平面である熱板を内部に有する上部真空容器と、伸縮性シートが開口部に張架された下部真空容器とを有するラミネート装置であって、前記両真空容器が被ラミネートシートを挟んで閉じられたとき伸縮性シートを境界として上部真空室および下部真空室の2つの真空室が構成され、上部真空室を減圧してこれらの真空室に圧力差をつけて伸縮性シートを膨張させ、被ラミネートシートを伸縮性シートにより熱板に押しつけ加圧および加熱してラミネートすることを特徴とするラミネート装置。

IPC (2件)：

B29C 63/02 ,  H01L 31/04

FI (2件)：

B29C 63/02 ,  H01L 31/04 F

Fターム (15件)：

4F211AH33 ,  4F211SA07 ,  4F211SC06 ,  4F211SD01 ,  4F211SH06 ,  4F211SJ13 ,  4F211SJ23 ,  4F211SJ31 ,  4F211SP18 ,  4F211SP33 ,  4F211SP41 ,  4F211SP44 ,  4F211SP45 ,  5F051BA14 ,  5F051JA05