特許

J-GLOBAL ID：200903018076708683

チタン酸ジルコン酸鉛系薄膜の製造方法

発明者： 鳥居 和功 ,  加賀 徹 ,  櫛田 恵子 ,  武田 英次
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-197722
公開番号（公開出願番号）：特開平5-043242
出願日： 1991年08月07日
公開日（公表日）： 1993年02月23日
要約：

【要約】【目的】チタン酸ジルコン酸鉛系固溶体の薄膜の組成を再現性良く、精密に制御する方法を提供する。【構成】スパッタ法によりチタン酸ジルコン酸鉛系固溶体の薄膜を形成する際、高周波電力を調整することにより、所望の組成の薄膜を得る。【効果】簡単に、再現性よく所望の組成のチタン酸ジルコン酸鉛系固溶体の薄膜を薄膜を作成することが可能となる。

請求項（抜粋）：

チタン酸ジルコン酸鉛 Pb(ZrxTi1-x)O3 を主成分とする薄膜を高周波スパッタリング法により形成する際に、薄膜中の鉛の組成を高周波電力により制御することを特徴とするチタン酸ジルコン酸鉛系薄膜の製造方法。

IPC (3件)：

C01G 25/00 ,  H01L 37/00 ,  H01L 41/187