特許

J-GLOBAL ID：200903018085119879

膜形成装置

発明者： 北野 高広 ,  森川 祐晃 ,  江崎 幸彦 ,  石坂 信和 ,  古閑 法久 ,  竹下 和宏 ,  大隈 博文 ,  飽本 正己
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 金本 哲男 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-382705
公開番号（公開出願番号）：特開2002-166209
出願日： 2000年12月15日
公開日（公表日）： 2002年06月11日
要約：

【要約】【課題】 極めて小さい塗布液の吐出口の径を持った塗布液供給手段を有する基板の膜形成装置を提供する。【解決手段】 ウェハW上にレジスト液を吐出する吐出ノズル85は,略円筒形の内ボディー96と,この下面を閉鎖する円盤状のノズルプレート95とを有する。このノズルプレート95の中心には吐出口94が形成される。このノズルプレート95は,内ボディー96の外側で螺着する外ボディー97によって,内ボディー96の下面に対して,密着固定される。レジスト液は溶剤によって希釈したものを使用し,濃度は1.0〜7.0%のものが好ましい。

請求項（抜粋）：

塗布液吐出手段から基板に塗布液を供給してこの基板表面に膜を形成する膜形成装置であって,前記塗布液吐出手段は,略筒状の支持部材と,前記支持部材の基板側の面に支持され,この基板側の面を閉塞する薄板を有し,前記薄板には,前記基板に塗布液を吐出する所定径の吐出口が設けられていることを特徴とする,基板の膜形成装置。

IPC (9件)：

B05C 5/00 101 ,  B05B 1/14 ,  B05C 9/12 ,  B05C 11/10 ,  B05D 1/26 ,  B05D 3/00 ,  B05D 7/00 ,  G03F 7/16 501 ,  H01L 21/027

FI (9件)：

B05C 5/00 101 ,  B05B 1/14 Z ,  B05C 9/12 ,  B05C 11/10 ,  B05D 1/26 Z ,  B05D 3/00 D ,  B05D 7/00 H ,  G03F 7/16 501 ,  H01L 21/30 564 Z

Fターム (35件)：

2H025AB16 ,  2H025EA04 ,  2H025EA05 ,  4D075AC04 ,  4D075AC09 ,  4D075AC96 ,  4D075DA06 ,  4D075DC22 ,  4D075EA45 ,  4F033AA14 ,  4F033BA03 ,  4F033CA04 ,  4F033DA05 ,  4F033EA01 ,  4F033HA03 ,  4F033HA05 ,  4F033NA01 ,  4F041AA06 ,  4F041BA13 ,  4F041BA38 ,  4F041BA48 ,  4F041CA02 ,  4F041CA18 ,  4F042AA07 ,  4F042BA17 ,  4F042BA19 ,  4F042DG08 ,  4F042DG09 ,  4F042EB05 ,  4F042EB09 ,  4F042EB13 ,  4F042EB18 ,  4F042EB25 ,  5F046JA02 ,  5F046JA24

引用特許：

審査官引用 (7件)

• 特開平1-107867
  
• ノズル形成部材の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-069690   出願人：株式会社リコー
• 塗布ノズル
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-353900   出願人：アイシン化工株式会社
• 塗布装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-104651   出願人：ソニー株式会社
• ノズル装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-335136   出願人：東レ株式会社
• 基板回転塗布装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-269092   出願人：大日本印刷株式会社
• 基板処理装置および方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-341320   出願人：大日本スクリーン製造株式会社