特許
J-GLOBAL ID:200903018092478957

集積型薄膜太陽電池の製造方法およびパターニング装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 池内 寛幸 (外5名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-137109
公開番号(公開出願番号):特開2001-320071
出願日: 2000年05月10日
公開日(公表日): 2001年11月16日
要約:
【要約】【課題】 特性が高い集積型薄膜太陽電池を歩留まりよく製造できる集積型薄膜太陽電池の製造方法およびパターニング装置を提供する。【解決手段】 基板10上に第1の電極膜11を形成したのち第1の電極膜11を短冊状に分割する第1の工程と、第1の電極膜11上に接合を含む薄膜12を形成したのち薄膜12を短冊状に分割する第2の工程と、薄膜12上および薄膜12が除去されて露出している第1の電極膜11上に第2の電極膜13を形成したのち第2の電極膜13を短冊状に分割する第3の工程とを含み、第1の工程における第1の電極膜11、第2の工程における薄膜12、および第3の工程における第2の電極膜13から選ばれる少なくとも1つの膜が、気体をレーザスポットに吹き付けながら連続発振のレーザ光を膜に照射することによって分割される。
請求項(抜粋):
直列接続された2以上の太陽電池ユニットセルを基板上に形成する集積型薄膜太陽電池の製造方法であって、前記基板上に第1の電極膜を形成したのち、前記第1の電極膜の一部をストライプ状に除去して前記第1の電極膜を短冊状に分割する第1の工程と、前記第1の電極膜上に接合を含む薄膜を形成したのち、前記薄膜の一部をストライプ状に除去して前記薄膜を短冊状に分割する第2の工程と、前記薄膜上および前記薄膜が除去されて露出している前記第1の電極膜上に第2の電極膜を形成したのち、前記第2の電極膜の一部をストライプ状に除去して前記第2の電極膜を短冊状に分割する第3の工程とを含み、前記第1の工程における前記第1の電極膜、前記第2の工程における前記薄膜、および前記第3の工程における前記第2の電極膜から選ばれる少なくとも1つの膜が、気体をレーザスポットに吹き付けながら連続発振のレーザ光を前記膜に照射することによって分割されることを特徴とする集積型薄膜太陽電池の製造方法。
FI (2件):
H01L 31/04 E ,  H01L 31/04 S
Fターム (9件):
5F051AA05 ,  5F051AA10 ,  5F051BA11 ,  5F051EA02 ,  5F051EA16 ,  5F051FA06 ,  5F051GA02 ,  5F051GA03 ,  5F051GA05

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