特許

J-GLOBAL ID：200903018092694595

ネガ型フォトレジスト組成物

発明者： 植田 裕治 ,  竹山 尚幹 ,  植木 裕美 ,  楠本 武宏 ,  中野 由子
出願人/特許権者： 住友化学工業株式会社
代理人 (1件)： 久保山 隆 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-221373
公開番号（公開出願番号）：特開平6-067413
出願日： 1992年08月20日
公開日（公表日）： 1994年03月11日
要約：

【要約】【目的】 遠紫外線(特にKr Fエキシマーレーザー)リソグラフィに適し、且つ、諸性能(解像度、感度、残膜率、プロファイル及び耐熱性等)に優れ、しかも定在波効果の小さいネガ型フォトレジスト組成物を提供する。【構成】 p-ヒドロキシスチレンとスチレンとの共重合により得られる樹脂A及びポリ(p-ヒドロキシスチレン)を水素添加した樹脂Bの混合物を含むアルカリ可溶性樹脂、酸発生剤並びに架橋剤を含有するネガ型フォトレジスト組成物。

請求項（抜粋）：

p-ヒドロキシスチレンとスチレンとの共重合により得られる樹脂A及びポリ(p-ヒドロキシスチレン)を水素添加した樹脂Bの混合物を含むアルカリ可溶性樹脂、架橋剤並びに酸発生剤を含有してなるネガ型フォトレジスト組成物。

IPC (4件)：

G03F 7/004 503 ,  G03F 7/029 ,  G03F 7/038 505 ,  H01L 21/027