特許

J-GLOBAL ID：200903018112221400

ピラゾール誘導体

発明者： 新形 邦宏 ,  丸山 龍也 ,  林辺 敏 ,  四釜 久隆 ,  高須 俊行 ,  梅田 雅子 ,  平崎 詠子
出願人/特許権者： 山之内製薬株式会社
代理人 (1件)： 長井 省三 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-110956
公開番号（公開出願番号）：特開平6-298737
出願日： 1993年04月13日
公開日（公表日）： 1994年10月25日
要約：

【要約】 (修正有)【構成】 下記式(I)〔式中、R1 は低級アルキル基、R2 は低級アルキル基、R3 はフッ素原子、ニトロ基、炭素数3以上の未置換低級アルキル基、低級アルカノイル基又は低級アルコキシカルボニル基で置換されてもよいアミノ基などを示す〕で示されるピラゾール誘導体又はその塩。【効果】 メイラード反応を阻害する作用を有し、各種糖尿病合併症、加齢による疾患の予防及び/又は治療に有用である。また、化粧品、皮膚外用剤、飲食物、嗜好物、機能性食品用のメイラード反応阻害剤としても有用である。

請求項（抜粋）：

一般式(I)【化1】(式中の記号は、以下の意味を示す。R1 :低級アルキル基R2 :低級アルキル基R3 :(i)フッ素原子、ニトロ基、炭素数3以上の未置換の低級アルキル基、又は低級アルカノイル基もしくは低級アルコキシカルボニル基で置換されてもよいアミノ基、又は(ii)ハロゲン原子、低級アルカノイル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル基及び式【化2】(R4 、R5 又はR6 :同一又は異なって水素原子、アミノ基、ニトロ基、水酸基、低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル基又はアラルキルオキシ基。更に、R5 、R6 が一体となって低級アルキレンジオキシ基を形成してもよい。)で示されるフェニル基の何れかで置換された低級アルキル基、 又は(iii )水酸基、低級アルキル基、アラルキルオキシ基、低級アルキル基で置換されてもよいアミノ基及び低級アルコキシ基で置換されてもよい低級アルコキシ基の何れかで置換されたカルボニル基。更に、R2 とR3 とが一体となって炭素数3以上の低級アルキレン基を形成してもよい。)で示されるピラゾール誘導体又はその塩。

IPC (9件)：

C07D231/14 ,  A23L 1/29 ,  C07D231/16 ,  C07D231/18 ,  C07D231/38 ,  C07D231/56 ,  C07D405/06 231 ,  A61K 7/00 ,  A61K 31/415 ADP