特許

J-GLOBAL ID：200903018114234879

ガス浄化装置

発明者： 林 佑二 ,  若月 昇
出願人/特許権者： 富士通株式会社
代理人 (1件)： 宇井 正一 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-080745
公開番号（公開出願番号）：特開平6-262032
出願日： 1993年04月07日
公開日（公表日）： 1994年09月20日
要約：

【要約】【目的】 ガス浄化装置に関し、比較的に小型で、比較的に低電圧でグロー放電を生じさせることができ、かつ、プラズマの作用と触媒の作用とを相乗的に組合わせることのできるガス浄化装置を提供することを目的とする。【構成】 ガスの流れのための少なくとも2つの開口部18、20を有するケース12と、該ケース内に配置され、少なくとも一対の対向する接点部14a、16aを有する磁気感応リード14、16と、該少なくとも一対のリードの接点部を互いに開かせあるいは閉じさせるための駆動用コイル22と、該少なくとも一対のリードに接続された接点負荷用コイル30と、該少なくとも一対のリードの接点部の少なくとも近傍に担持された触媒26、28とを備える構成とする。

請求項（抜粋）：

ガスの流れのための少なくとも2つの開口部(18、20)を有するケース(12)と、該ケース内に配置され、少なくとも一対の対向する接点部(14a、16a)を有する磁気感応リード(14、16)と、該少なくとも一対のリードの接点部を互いに開かせあるいは閉じさせるための駆動用コイル(22)と、該少なくとも一対のリードに接続された接点負荷用コイル(30)と、該少なくとも一対のリードの接点部の少なくとも近傍に担持された触媒(26、28、41)とを備えることを特徴とするガス浄化装置。

IPC (5件)：

B01D 53/32 ZAB ,  B01D 53/36 ZAB ,  B01D 53/36 104 ,  B01J 23/40 ZAB ,  F01N 3/08