特許
J-GLOBAL ID:200903018117176322
固定層脱硫装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
堀田 実 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-228948
公開番号(公開出願番号):特開平10-066821
出願日: 1996年08月29日
公開日(公表日): 1998年03月10日
要約:
【要約】【課題】 固定層高さ方向の硫化率の分布を均一にすると共に、再生時ヒートスポットの発生を防止する。【解決手段】 被脱硫ガス入口4と精製ガス出口5の間に脱硫剤を充填した固定層3を有した脱硫再生塔1に、脱硫時は被脱硫ガス入口4より被脱硫ガスを流入して精製ガス出口5より精製ガスを取り出し、再生時には精製ガス出口5より再生用空気を流入して被脱硫ガス入口4より再生オフガスを取り出す固定層脱硫装置において、固定層3の被脱硫ガス流れ方向の横断面積を被脱硫ガス入口4より精製ガス出口5に行くに従い大きくしてゆくようにする。
請求項(抜粋):
被脱硫ガス入口と精製ガス出口の間に脱硫剤を充填した固定層を有した脱硫再生塔に、脱硫時は被脱硫ガス入口より被脱硫ガスを流入して精製ガス出口より精製ガスを取り出し、再生時には精製ガス出口より再生用空気を流入して被脱硫ガス入口より再生オフガスを取り出す固定層脱硫装置において、前記固定層の被脱硫ガス流れ方向の横断面積を被脱硫ガス入口より精製ガス出口に行くに従い大きくしてゆくようにしたことを特徴とする固定層脱硫装置。
IPC (8件):
B01D 53/14
, B01D 53/04
, B01D 53/34 ZAB
, B01D 53/46
, B01J 8/00
, C10J 3/00
, C10J 3/02
, C10J 3/46
FI (9件):
B01D 53/14 A
, B01D 53/04 G
, B01D 53/04 C
, B01J 8/00
, C10J 3/00 S
, C10J 3/02 J
, C10J 3/46 J
, B01D 53/34 ZAB
, B01D 53/34 121 Z
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