特許
J-GLOBAL ID：200903018121396140
リソグラフィ・システム
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-159686
公開番号（公開出願番号）：特開平7-134393
出願日： 1993年06月29日
公開日（公表日）： 1995年05月23日
要約：
【要約】【目的】 露光装置を用いて試験的な露光を行うことなく、スループットの高い露光データを求めて効率的に露光装置側に入力できるリソグラフィシステムを提供する。【構成】 基板上に形成すべきパターンの情報(設計データ)D1と、形成すべきパターンを複数の原板に分割するための情報(設計データ)D2とに基づいて、ニューラルネットワークを用いた推論部1aで、複数のパターン領域のそれぞれのマスク上での配置D3と感光基板に対する配置及び露光順序D4を決定する。求めた配置D3と、配置及び露光順序D4とを通信手段を介して露光装置の制御装置4に伝達し、複数の露光装置3を統括管理する。
請求項（抜粋）：
基板に対して原板のパターンを露光する複数台の露光装置と、該複数台の露光装置のそれぞれで使用される前記原板上での複数のパターン領域に関する第1の配置と前記複数のパターン領域のそれぞれの前記基板に対する第2の配置とに基づいて前記露光装置の稼働状態を制御する露光制御手段とを備えたリソグラフィ・システムにおいて、前記基板に形成すべきパターンの情報と、該形成すべきパターンを複数の前記原板に分割するための情報とに基づいて、前記第1及び第2の配置と前記複数のパターン領域のそれぞれの前記基板に対する露光順序とを決定する条件決定手段と;前記条件決定手段による前記第2の配置と前記露光順序とを前記露光制御手段に伝達する伝達手段とを備え、前記条件決定手段によって前記複数の露光装置を統括管理することを特徴とするリソグラフィ・システム。
IPC (3件)：
G03F 1/08
, G03F 7/20 521
, H01L 21/027
