プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：作田康夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-109408
公開番号（公開出願番号）：特開2001-358131
出願日： 1996年05月20日
公開日（公表日）： 2001年12月26日
要約：

【要約】【課題】高周波のプラズマにより処理をする装置においては、異物を生じさせることなく、ウエハ面上に均一なプラズマを形成できない課題が有った。【解決手段】高周波を通じるループアンテナ(3)と、ループアンテナ(3)をとり囲んで構成された空洞共振器(4),空度共振器(4)のプラズマに面する側に2重構造スリット(5)を設けたことを特徴とする。

請求項（抜粋）：

試料をプラズマにより処理する方法において、前記プラズマの密度分布を独立に制御することを特徴とするプラズマ処理方法。

IPC (5件)：

H01L 21/3065 , C23C 16/511 , C23C 16/52 , H01L 21/205 , H05H 1/46

FI (5件)：

C23C 16/511 , C23C 16/52 , H01L 21/205 , H05H 1/46 B , H01L 21/302 B

Fターム (21件)：

4K030CA04 , 4K030FA02 , 4K030JA18 , 4K030KA30 , 4K030KA41 , 5F004AA01 , 5F004AA16 , 5F004BA14 , 5F004BA20 , 5F004BB07 , 5F004BB14 , 5F004BC08 , 5F045AA09 , 5F045AA10 , 5F045EC01 , 5F045EH02 , 5F045EH03 , 5F045EH04 , 5F045EH08 , 5F045EH17 , 5F045EH19

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