特許
J-GLOBAL ID:200903018138065423

ヒドロキシブチルアルデヒド類の製法

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-068039
公開番号(公開出願番号):特開平6-279344
出願日: 1993年03月26日
公開日(公表日): 1994年10月04日
要約:
【要約】【目的】高選択的にヒドロキシブチルアルデヒドを製造し、かつ高選択性を維持する方法を提供する。【構成】トリフェニルホスフィンを配位子とするロジウム錯体触媒の存在下にアリルアルコ-ルをヒドロホルミル化する反応において、トランス-4,5-ビス(ジフェニルホスフィノメチル)-2,2-ジメチル-1,3-ジオキソランを、ロジウム1グラム原子あたり1.1当量以上の割合で反応系に添加して、ヒドロキシブチルアルデヒドを製造する。
請求項(抜粋):
有機リン化合物を配位子とするロジウム錯体触媒の存在下にアリルアルコ-ルをヒドロホルミル化する反応において、下記一般式(1)【化1】(式中、【化2】は環を形成している元素が炭素と酸素からなる置換または非置換の五員環構造を表し、R1、R2、R3及びR4は各々同一または異なるアリ-ル基またはアルキル基を表す)、または下記一般式(2)【化3】(式中、【化4】は環を形成している元素が炭素と窒素からなる置換または非置換の五員環構造を表し、R5、R6、R7及びR8は各々同一または異なるアリ-ル基またはアルキル基を表す)で示される有機ジホスフィン化合物を、ロジウム錯体触媒中のロジウム1グラム原子あたり1.1当量以上の割合で反応系に添加することを特徴とするヒドロキシブチルアルデヒド類の製法。
IPC (4件):
C07C 47/19 ,  B01J 31/22 ,  C07C 45/50 ,  C07B 61/00 300

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