特許

J-GLOBAL ID：200903018142549133

第4周期遷移金属塩又は/及び希土類金属粒子の製造方法、及び第4周期遷移金属及び希土類金属を含有する金属膜の形成方法

発明者： 福井 俊巳 ,  品川 留美
出願人/特許権者： 株式会社KRI
代理人 (1件)： 岡崎 豊野
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-285121
公開番号（公開出願番号）：特開2006-097093
出願日： 2004年09月29日
公開日（公表日）： 2006年04月13日
要約：

【課題】簡便な第4周期遷移金属及び希土類金属粒子の製造方法の提供、及びプラスチックなどの耐熱性の低い基材へ第4周期遷移金属及び希土類金属膜が形成可能な低温製造方法を提供する。【解決手段】(1)第4周期遷移金属及び希土類金属塩、相間移動触媒、界面活性剤を含む水・疎水性有機溶剤2層溶液に還元剤を添加する工程、(2)水層を除去する工程、(3)疎水性有機溶剤に親水性有機溶剤を添加し第4周期遷移金属及び希土類金属粒子を沈殿・分離する工程により第4周期遷移金属及び希土類金属粒子を製造する。また、第4周期遷移金属及び希土類金属粒子を含有する塗布液を基体上に成膜後、加熱処理と紫外光照射とを行う事により200°C以下の温度で第4周期遷移金属及び希土類金属膜を形成する。

請求項（抜粋）：

(1)第4周期遷移金属塩又は/及び希土類金属塩、相間移動触媒、界面活性剤を含む水・疎水性有機溶剤2層溶液に還元剤を添加する工程と、(2)前記2層溶液から水層を除去する工程と、(3)前記疎水性有機溶剤に親水性有機溶剤を添加し第4周期遷移金属塩又は/及び希土類金属粒子を分離する工程とを含むことを特徴とする第4周期遷移金属及び希土類金属粒子の製造方法。

IPC (2件)：

B22F 9/24 ,  C23C 26/00

FI (4件)：

B22F9/24 B ,  B22F9/24 C ,  B22F9/24 Z ,  C23C26/00 B

Fターム (18件)：

4K017AA03 ,  4K017BA03 ,  4K017BA05 ,  4K017BA06 ,  4K017BA08 ,  4K017BA10 ,  4K017CA08 ,  4K017DA07 ,  4K017EJ01 ,  4K017EJ02 ,  4K017FB07 ,  4K044BA01 ,  4K044BA06 ,  4K044BB01 ,  4K044CA27 ,  4K044CA41 ,  4K044CA44 ,  4K044CA53

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 特開200491859号公報
  
• 特開平11246901号公報
  
• 特開200054012号公報
  

審査官引用 (4件)

• 有機的に官能価された金属の単分散微小結晶
  公報種別：公表公報   出願番号：特願平9-523908   出願人：ヒース,ジェイムズアール., レフ,ダニエルブイ.
• 金属微粒子の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-348441   出願人：三ツ星ベルト株式会社
• 特開昭59-167906
  
• 特開平4-304272