特許

J-GLOBAL ID：200903018144865423

気相反応装置

発明者： 鈴木 新一 ,  森 順一 ,  工藤 豊
出願人/特許権者： 日立電子エンジニアリング株式会社
代理人 (1件)： 梶山 佶是 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-146727
公開番号（公開出願番号）：特開平9-306899
出願日： 1996年05月16日
公開日（公表日）： 1997年11月28日
要約：

【要約】【課題】 セルフクリーニングを効率的に実施できるプラズマCVD装置を提供する。【解決手段】 反応炉を有し、該反応炉内には少なくともシャワー電極とサセプタが配設されており、前記シャワー電極は絶縁リングにより支持され、かつ、高周波電源に接続されており、前記サセプタはその上面に均熱板とその均熱板の周囲を取り囲む絶縁カバーを有する気相反応装置において、前記反応炉に成膜用圧力センサとクリーニング用圧力センサの2種類の圧力センサが設置されていることを特徴とする気相反応装置。

請求項（抜粋）：

反応炉を有し、該反応炉内には少なくともシャワー電極とサセプタが配設されており、前記シャワー電極は絶縁リングにより支持され、かつ、高周波電源に接続されており、前記サセプタはその上面に均熱板とその均熱板の周囲を取り囲む絶縁カバーを有する気相反応装置において、前記反応炉に成膜用圧力センサとクリーニング用圧力センサの2種類の圧力センサが設置されていることを特徴とする気相反応装置。

IPC (3件)：

H01L 21/31 ,  C23C 16/44 ,  H01L 21/205

FI (3件)：

H01L 21/31 C ,  C23C 16/44 J ,  H01L 21/205