特許
J-GLOBAL ID：200903018145011924
薄膜形成装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
秋山 敦
, 城田 百合子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-050674
公開番号（公開出願番号）：特開2007-231303
出願日： 2006年02月27日
公開日（公表日）： 2007年09月13日
要約：
【課題】基板に形成される薄膜の膜厚をリアルタイムに且つ高い精度で測定することが可能な薄膜形成装置を提供する。【解決手段】真空容器11の内部に回転自在に設置され基板Sを保持可能な回転ドラム13と、この回転ドラム13の一部の領域Lに向けて膜原料物質を供給して基板Sの表面に薄膜を形成するスパッタ手段20と、このスパッタ手段20から供給される膜原料物質が常時付着する位置に固定された水晶膜厚センサ43a,43bと、この水晶膜厚センサ43a,43bに付着する膜原料物質の付着量と基板Sの表面に間欠的に付着する膜原料物質の付着量との間の比率に基づいて、基板Sの表面に形成される薄膜の膜厚を演算する膜厚演算コンピュータ42と、を備えた。水晶膜厚センサ43a,43bに付着した膜原料物質の付着量から実際の基体に形成された薄膜の膜厚を、この比率の分だけ高い感度で測定することが可能となる。【選択図】図3
請求項（抜粋）：
内部を真空状態に維持する真空容器と、
該真空容器の内部に回転自在に設置され基体を保持可能な基体保持手段と、
該基体保持手段の一部の領域に向けて膜原料物質を供給することで、前記基体保持手段の回転毎に間欠的に基体の表面に膜原料物質を付着させる膜原料物質供給手段と、
基体の表面に形成された薄膜の膜厚を測定する膜厚測定手段と、を備えた薄膜形成装置であって、
前記膜厚測定手段は、
前記膜原料物質供給手段から供給される膜原料物質が常時付着する位置に固定された膜厚測定部と、
該膜厚測定部に付着する膜原料物質の付着量と前記基体の表面に間欠的に付着する膜原料物質の付着量との間の相関関係に基づいて、前記基体の表面に形成される薄膜の膜厚を演算する膜厚演算部と、
を備えたことを特徴とする薄膜形成装置。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (14件)：
4K029AA09
, 4K029AA24
, 4K029BA02
, 4K029BC07
, 4K029CA05
, 4K029DA03
, 4K029DA12
, 4K029DC16
, 4K029DC39
, 4K029EA01
, 4K029GA02
, 4K029JA02
, 4K029KA02
, 4K029KA09
