特許
J-GLOBAL ID：200903018147767384
現像方法および現像装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
河原 純一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-356228
公開番号（公開出願番号）：特開平5-173413
出願日： 1991年12月24日
公開日（公表日）： 1993年07月13日
要約：
【要約】【目的】 周囲環境の変化等にかかわらず画像不良のない現像を可能にする。【構成】 導電性現像剤供給部材2は現像剤担持体1に現像剤Tを供給し、導電性層厚規制部材3は現像剤担持体1上の現像剤Tの薄層形成および帯電を行い、第1の表面電位センサ11は現像剤Tの薄層が形成された現像剤担持体1の表面電位を測定し、第2の表面電位センサ12は現像後の静電潜像保持体10の表面電位を測定し、比較制御部13は現像剤担持体1の表面電位と電源E3からの電圧との差分値が第1規定値に対して第1規定範囲内となるように導電性現像剤供給部材2および導電性層厚規制部材3に接続された電源E1および電源E2のうちの少なくとも1つを制御し、現像後の静電潜像保持体10の表面電位が第2規定値に対して第2規定範囲内となるように電源E1,電源E2および電源E3のうちの少なくとも1つを制御する。
請求項（抜粋）：
現像剤にて静電潜像を現像する現像方法において、導電性現像剤供給部材により現像剤担持体に現像剤を供給する供給工程と、導電性層厚規制部材により前記現像剤担持体上に現像剤の薄層を形成するとともに現像剤に対して帯電を行う薄層形成工程と、現像剤の薄層が形成された前記現像剤担持体の表面電位を測定する第1の測定工程と、現像後の静電潜像保持体の表面電位を測定する第2の測定工程と、前記現像剤担持体の測定される表面電位と前記現像剤担持体に印加される電圧との差分値が第1規定値に対して第1規定範囲内となるように前記導電性現像剤供給部材および前記導電性層厚規制部材への電源の出力のうちの少なくとも1つを制御する第1の制御工程と、前記静電潜像保持体の測定される表面電位が第2規定値に対して第2規定範囲内となるように前記現像剤担持体,前記導電性現像剤供給部材および前記導電性層厚規制部材への電源の出力のうちの少なくとも1つを制御する第2の制御工程とを含むことを特徴とする現像方法。
IPC (3件)：
G03G 15/08
, G03G 15/00 303
, G03G 15/06 101
