特許
J-GLOBAL ID：200903018170060352
エレクトロクロミック素子及びその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-149036
公開番号（公開出願番号）：特開平7-209677
出願日： 1994年06月30日
公開日（公表日）： 1995年08月11日
要約：
【要約】 (修正有)【目的】 従来のエレクトロクロミック素子の製造方法が有する問題点を解決することができる構造のエレクトロクロミック素子及びその製造方法を提供する。【構成】 一対の電極層2,4が短絡しないように、エレクトロクロミック層3及び一対の電極層2,4を任意形状の素子基板1上に形成し、かつ前記電極層2,4の各電極取り出し部を素子基板1上の最外縁まで又はエレクトロクロミック層3の形成パターンより外側まで互いに分離して形成する工程と、素子基板1の素子面を封止基板6及び封止剤7により封止して一体の基板とする工程と、それを加工して所定形状の一体基板とする工程と、その一体基板の端面領域に一対の低抵抗部材5を分離して設け、前記互いに分離して形成した各電極取り出し部とそれぞれ別個に接触させて導通をとることにより、前記一対の電極層2,4の各電極取り出しを行う工程からなる。
請求項（抜粋）：
第1基板と第2基板との間に、少なくとも、第1電極層、エレクトロクロミック層、イオン導電層、及び第2電極層を形成してなるエレクトロクロミック素子において、前記第1基板と前記第2基板との間の第1端面領域に、前記第1電極層の外縁を部分的に露出又は近接させてなる第1取り出し電極形成領域を設け、前記第1基板と前記第2基板との間の第2端面領域に、前記第2電極層の外縁を部分的に露出又は近接させてなり、前記第1取り出し電極形成領域とは分離した第2取り出し電極形成領域を設け、前記第1取り出し電極形成領域及び前記第2取り出し電極形成領域に、前記第1電極層及び前記第2電極層と別個に導通する各低抵抗部材をそれぞれ設けたことを特徴とするエレクトロクロミック素子。
IPC (2件)：
G02F 1/15 505
, G02F 1/155
