特許
J-GLOBAL ID：200903018170863579
異物微粒子の分析方法およびその装置
発明者：
出願人/特許権者：
,
代理人 (1件)：
安倍 逸郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-132908
公開番号（公開出願番号）：特開平8-304426
出願日： 1995年05月01日
公開日（公表日）： 1996年11月22日
要約：
【要約】【目的】 ウェーハ表面の目標異物をより早く、より簡単に見つけることを目的とする。小さな異物を確実に検出することを目的とする。【構成】 ウェーハ表面を検査し、異物微粒子の表面上位置を検出する。標準粒子を霧状に散布し、その霧状の標準粒子雰囲気中を一定速度でウェーハを通過させる。異物微粒子の検出位置を、標準粒子付着位置に基づいて補正し、異物微粒子の付着位置を決定する。AFMにおいて暗視野中でウェーハ表面に対して低角度で光を照射することにより、異物微粒子を分析する。この結果、非常に狭い範囲で座標補正を行える。測定したい位置のすぐ近くに標準粒子を存在させることができ、付着した異物微粒子を容易に測定することができる。標準粒子としては、ポリスチレンラテックス(PSL)等光りやすいものを使用する。
請求項（抜粋）：
測定対象物の表面を検査してこの表面に付着した異物微粒子の表面上の位置を検出する第1工程と、この測定対象物の表面全面に略均一に分布させて標準粒子を付着させる第2工程と、上記第1工程で検出した異物微粒子の表面上の位置およびこの標準粒子の付着位置を基準として異物微粒子の測定対象物の表面上の位置を決定し、この異物微粒子を分析する第3工程とを備えた異物微粒子の分析方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G01N 37/00 F
, H01L 21/66 J
