特許

J-GLOBAL ID：200903018171740047

基板の洗浄乾燥装置

発明者： 河野 誠 ,  平野 雅之
出願人/特許権者： 株式会社飯沼ゲージ製作所 ,  浜松ホトニクス株式会社
代理人 (1件)： 石田 敬 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-183579
公開番号（公開出願番号）：特開平8-045884
出願日： 1994年08月04日
公開日（公表日）： 1996年02月16日
要約：

【要約】【目的】 液晶ディスプレイや半導体製造に用いられるドライ洗浄乾燥装置に関し、洗浄乾燥処理の処理前、処理中、及び処理後に発生する静電気の除去を可能にした、基板の洗浄乾燥装置を提供する。【構成】 装置内で基板3を移動させ得る移送部5と、移送部5による基板3の移動時に、基板3に対して清浄な気体を噴射し得るスリットヘッド35及び不用物を吸引し得る吸引口部37を具える洗浄乾燥部9と、静電気除去のために基板に対して軟X線を照射し得る第1の軟X線照射部7a及び第2の軟X線照射部7b、とを有する。

請求項（抜粋）：

装置内で基板を移動させ得る移送部と、移送部による基板の移動時に、基板に対して圧力が1〜5kg/cm2 の清浄な気体を噴射し得ると共に不用物を吸引し得る洗浄乾燥部と、静電気除去のために基板に対して1500mm以下の任意の高さ及び5〜180度の任意の角度で軟X線の出射が可能となるように取り付けられた照射エネルギーが4〜9.5keVの軟X線照射部、とを有することを特徴とする基板の洗浄乾燥装置。

IPC (6件)：

H01L 21/304 341 ,  H01L 21/304 361 ,  B08B 7/00 ,  F26B 25/00 ,  G02F 1/1333 500 ,  H05K 3/26