特許
J-GLOBAL ID：200903018172577670
縮小投影露光装置用レチクル
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小鍜治 明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-147178
公開番号（公開出願番号）：特開平5-341499
出願日： 1992年06月08日
公開日（公表日）： 1993年12月24日
要約：
【要約】【目的】 アライメントマークをずれを生じさせたり、つぶしたりすることなくウェハーに露光し、合わせ精度を高める。【構成】 縮小投影露光装置用レチクルの、本体チップ領域1周辺のスクライブライン領域3に配置するアライメントマーク4に、保護パターン10,11を配置することによって本体チップ領域1周辺のスクライブライン領域3にアライメントマーク4を配置可能にしたことと、保護パターン10,11を設けたことによって露光時にアライメントマークのつぶれがなくなり、縮小投影露光装置用レチクルの設計のスループットの向上、合わせ精度の向上になり良品収量の向上を実現できた。
請求項（抜粋）：
レチクル内に少なくとも1つの本体チップ領域と、PCM領域と、前記本体チップ領域間にスクライブライン領域とを備え、前記スクライブライン領域にアライメントマークと、前記アライメントマークに対してY軸に対称の位置に配置した第1の保護パターンと、前記PCM領域によるシフトショット分移動した位置に配置した第2の保護パターンとよりなることを特徴とする縮小投影露光装置用レチクル。
IPC (3件)：
G03F 1/08
, G03F 9/00
, H01L 21/027
H01L 21/30 301 P
, H01L 21/30 311 W
