特許
J-GLOBAL ID：200903018176509670
位相シフトマスク部を有するマスク構造
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高月 亨
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-285042
公開番号（公開出願番号）：特開平6-118620
出願日： 1992年09月30日
公開日（公表日）： 1994年04月28日
要約：
【要約】【目的】 位相シフトマスク部を有するマスク構造について、容易で簡明な構成により、位相シフトマスク部とそれ以外の部分とのパターン形成寸法の差を解消できるマスク構造を提供する。【構成】 光透過部12と、この光透過部とは透過光の位相を変えて光を透過する位相シフト部11とを備えた位相シフトマスク部Aを有するマスク構造において、位相シフトマスク部の光透過率を、イオン注入や、光吸収材料膜21を設けることなどにより、位相シフトマスク部以外の部分Bよりも低く構成したマスク構造。
請求項（抜粋）：
光透過部と、この光透過部とは透過光の位相を変えて光を透過する位相シフト部とを備えた位相シフトマスク部を有するマスク構造において、位相シフトマスク部の光透過率を位相シフトマスク部以外の部分よりも低く構成したことを特徴とするマスク構造。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/30 301 P
, H01L 21/30 311 W
