特許

J-GLOBAL ID：200903018178244401

保管庫、露光装置、デバイス製造方法、半導体製造工場および露光装置の保守方法

発明者： 竹内 誠二 ,  村上 栄一
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 伊東 哲也 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-094374
公開番号（公開出願番号）：特開2001-284218
出願日： 2000年03月30日
公開日（公表日）： 2001年10月12日
要約：

【要約】【課題】 露光装置にレチクルやウエハを搬送する前の段階で、酸素濃度を5ppm程度まで低減した雰囲気内でレチクルやウエハを保管し、外気に触れることなく露光装置に受け渡す。【解決手段】 第1封入体と、第1封入体の内部雰囲気を第1雰囲気となるように制御する雰囲気制御手段と、第1封入体の外部雰囲気に曝されることなく、被保管物を露光装置に受け渡す、または、露光装置から受け取る搬送手段を有し、被保管物を少なくとも1つ第1封入体の内部に保管する。

請求項（抜粋）：

第1封入体と、前記第1封入体の内部雰囲気を第1雰囲気となるように制御する雰囲気制御手段と、前記第1封入体の外部雰囲気に曝されることなく、被保管物を露光装置に受け渡す、または、前記露光装置から受け取る搬送手段を有し、前記被保管物を少なくとも1つ前記第1封入体の内部に保管する保管庫。

IPC (6件)：

H01L 21/027 ,  G03F 1/14 ,  G03F 7/20 502 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/02 ,  H01L 21/68

FI (7件)：

G03F 1/14 M ,  G03F 7/20 502 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/02 Z ,  H01L 21/68 T ,  H01L 21/30 516 F ,  H01L 21/30 503 E

Fターム (37件)：

2H095BA07 ,  2H095BB29 ,  2H095BB30 ,  2H095BE11 ,  2H095BE12 ,  2H097BA02 ,  2H097BA04 ,  2H097CA13 ,  2H097DA06 ,  2H097DB07 ,  2H097LA10 ,  5F031CA02 ,  5F031CA07 ,  5F031DA08 ,  5F031DA12 ,  5F031EA14 ,  5F031FA01 ,  5F031FA04 ,  5F031FA07 ,  5F031FA11 ,  5F031JA01 ,  5F031JA45 ,  5F031MA27 ,  5F031NA04 ,  5F031NA07 ,  5F031NA11 ,  5F031NA17 ,  5F031NA20 ,  5F031PA01 ,  5F046AA17 ,  5F046AA21 ,  5F046AA22 ,  5F046CA04 ,  5F046CD04 ,  5F046CD05 ,  5F046DA27 ,  5F046DB03