特許
J-GLOBAL ID:200903018181397715
往復運動する開口マスクシステム及び方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (6件):
青木 篤
, 鶴田 準一
, 島田 哲郎
, 廣瀬 繁樹
, 水本 義光
, 丹羽 匡孝
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2008-545723
公開番号(公開出願番号):特表2009-520110
出願日: 2006年12月12日
公開日(公表日): 2009年05月21日
要約:
物質のパターンを基板上に蒸着するための装置が往復運動する開口マスクを含んでいる。供給マガジンは複数のジグを収容しており、各ジグは、パターンを画定する開口を有するマスクを支持するように構成される。シャトル機構は、供給マガジンによって提供される選択されたジグを受容し、選択されたジグのマスクと基板との間の接触を確立する。シャトル機構は、蒸着物質が選択されたジグの、マスクの開口を通過して蒸着物質のパターンを基板上に作製するように、選択されたジグを基板と一致させて、及び蒸着源に対して移動させる。
請求項(抜粋):
物質のパターンを基板上に蒸着するための装置であって、
前記基板を供給する供給ローラ機構及び前記基板を受け入れる受入れローラ機構と、
蒸着物質を前記基板に向けるように配置された蒸着源と、
複数のジグを収容するように構成され、個々のジグがパターンを規定する開口を有するマスクを支持するように構成されている供給マガジンと、
前記供給マガジンによって提供されて、選択されたジグを受け入れ、前記選択されたジグの前記マスクと前記基板との間で接触を確立するように構成されているシャトル機構であって、蒸着物質を前記選択されたジグの前記マスクの開口を通過させ、前記蒸着物質のパターンを基前記板上に作るために、前記選択されたジグを前記基板と一致させ、かつ、前記蒸着源に対して移動させるように構成されているシャトル機構と、
を備えた装置。
IPC (4件):
C23C 14/54
, C23C 14/24
, C23C 14/56
, C23C 14/04
FI (5件):
C23C14/54 G
, C23C14/24 G
, C23C14/24 V
, C23C14/56 J
, C23C14/04 A
Fターム (14件):
4K029AA11
, 4K029AA25
, 4K029BB03
, 4K029BD02
, 4K029CA01
, 4K029CA05
, 4K029DA12
, 4K029DB20
, 4K029HA01
, 4K029HA02
, 4K029HA04
, 4K029JA10
, 4K029KA03
, 4K029KA09
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