特許
J-GLOBAL ID：200903018182680615
真空アーク蒸着装置および磁気記録媒体
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
谷 義一
, 阿部 和夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-034260
公開番号（公開出願番号）：特開2004-244667
出願日： 2003年02月12日
公開日（公表日）： 2004年09月02日
要約：
【課題】成膜時における成膜面へのパーティクルの流入をより顕著に低減可能な真空アーク蒸着装置を実現すること。【解決手段】ステンレスパイプの内側に、成膜面に流入しようとするパーティクルの軌道を遮って、アーク放電により発生したパーティクルが真空成膜チャンバへ流入することを阻止するためのバッフル構造を備える。バッフル構造は、平板状のリング部材である薄板20が、隣り合う薄板20が互いに平行になるようにして薄板20の内周部と外周部、円周方向には90度ずつ4箇所の計8本のワイヤー21で結合されたものである。【選択図】 図2
請求項（抜粋）：
真空に排気される真空室と、
該真空室に収容される基体に成膜するための成膜原料を陰極ターゲットとしてアーク放電する放電手段と、
前記真空室と前記放電手段の間に配設されており、前記アーク放電により発生した陰極物質プラズマを、コイルに通電されて発生した磁場により前記真空室に誘導して前記基体に蒸着させるための筒状のプラズマ誘導手段と
を備えた真空アーク蒸着装置において、
前記プラズマ誘導手段の内側に配設されており、前記アーク放電により発生したパーティクルが前記真空室へ流入することを阻止するために所定の位置関係で配置された複数の面を含んでなるパーティクル阻止手段を備えたことを特徴とする真空アーク蒸着装置。
IPC (4件)：
C23C14/24
, C23C14/00
, G11B5/72
, G11B5/84
C23C14/24 F
, C23C14/00 B
, G11B5/72
, G11B5/84 B
4K029BA00
, 4K029BC02
, 4K029BD00
, 4K029BD11
, 4K029DA10
, 4K029DD06
, 4K029DE05
, 4K029EA06
, 5D006AA02
, 5D006AA04
, 5D006EA03
, 5D112AA07
, 5D112BC05
, 5D112FA02
, 5D112FB01
