特許
J-GLOBAL ID：200903018194853884
光触媒型保護被膜及び光触媒反応の発生方法
発明者：
,
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
志賀 正武 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-119673
公開番号（公開出願番号）：特開平11-310886
出願日： 1998年04月28日
公開日（公表日）： 1999年11月09日
要約：
【要約】【課題】 蛍光の利用により光触媒反応を長時間持続させるとともに、太陽光が得られない夜間等においても光触媒反応を発生させ、光触媒反応の発生効率向上や、光触媒反応の発生面積及び範囲の拡大を達成する。【解決手段】 保護被膜の中に、光触媒及び蛍光物質が分散状態に配されるとともに、透明粒体が介在状態に配される。
請求項（抜粋）：
構造材(1)における被処理表面(1a)に形成される保護被膜(2)であって、保護被膜の中に、光触媒(21)及び蛍光物質(22)が分散状態に配されていることを特徴とする光触媒型保護被膜。
IPC (4件)：
C23C 30/00
, B01J 35/02
, C09D 5/00
, C09D 5/22
C23C 30/00 C
, B01J 35/02 J
, C09D 5/00 Z
, C09D 5/22
