特許
J-GLOBAL ID:200903018201489425

マッサージ装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 西脇 民雄 ,  西村 公芳
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-372644
公開番号(公開出願番号):特開2005-131242
出願日: 2003年10月31日
公開日(公表日): 2005年05月26日
要約:
【課題】足裏の土踏まずの部分のマッサージ効果を高めるマッサージ装置の提供。【解決手段】 マッサージ装置1において、人体の足部の足裏を施療する足裏施療部材となるマッサージ部材9が、足裏の幅方向に延びる回転軸16を有し、この回転軸16を中心としてマッサージ部材9を回転させることによって、足裏の内側となる土踏まずと足裏の外側となる部位を含む足裏全体をマッサージするものであり、揉み玉10の回転領域の回転半径が、揉み玉11の回転領域の回転半径より大きく設定されている。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
人体の足部の足裏を施療する足裏施療部材が、足裏の幅方向に延びる回転中心線を有し、この回転中心線を中心として前記足裏施療部材を回転させることによって、足裏の内側となる土踏まずと足裏の外側となる部位をマッサージするマッサージ装置であって、 前記足裏施療部材は、足裏施療部材の1回転において押圧力の強弱を与える複数の突起部分を有し、足裏の内側を施療する突起部分の前記回転中心における回転領域の回転半径が、前記足裏施療部材における足裏の外側を施療する突起部分の前記回転中心における回転領域の回転半径より、大径とされていることを特徴とするマッサージ装置。
IPC (2件):
A61H15/00 ,  A61H39/04
FI (2件):
A61H15/00 340Z ,  A61H39/04 E
Fターム (11件):
4C100AE11 ,  4C100AE17 ,  4C100AF06 ,  4C100BB03 ,  4C100DA11 ,  4C100EA13 ,  4C101BB02 ,  4C101BC09 ,  4C101BE07 ,  4C101DB03 ,  4C101DB15
引用特許:
出願人引用 (1件)
  • 足マッサージ機
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平10-065648   出願人:三菱電機株式会社
審査官引用 (2件)

前のページに戻る