特許

J-GLOBAL ID：200903018204593614

成膜装置

発明者： 古森 秀樹 ,  森野 寧規 ,  小野 健一
出願人/特許権者： 三菱電機株式会社
代理人 (1件)： 宮田 金雄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-040573
公開番号（公開出願番号）：特開平11-236674
出願日： 1998年02月23日
公開日（公表日）： 1999年08月31日
要約：

【要約】【課題】 ウェハを確実に保持することが可能な成膜装置を提供する。【解決手段】 材料ガスを噴出させるガス供給ヘッドおよびガス供給ヘッドと対向する側の一方の面にウェハを保持して回転するウェハ保持台を反応室内に備えた成膜装置において、ウェハ保持台の両面上の雰囲気に圧力差を形成するとともにウェハ保持台にウェハの保持部を貫通し両雰囲気間を連通する連通穴を設ける。

請求項（抜粋）：

材料ガスを噴出させるガス供給ヘッドおよび上記ガス供給ヘッドと対向する側の一方の面にウェハを保持して回転するウェハ保持台を反応室内に備えた成膜装置において、上記ウェハ保持台の両面上の雰囲気に圧力差を形成するとともに上記ウェハ保持台に上記ウェハの保持部を貫通し上記両雰囲気間を連通する連通穴を設けたことを特徴とする成膜装置。