特許

J-GLOBAL ID：200903018204656616

X線蛍光体製作方法及びX線蛍光体形成用基板

発明者： 小倉 洋
出願人/特許権者： 松下電器産業株式会社
代理人 (1件)： 岩橋 文雄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-236731
公開番号（公開出願番号）：特開2001-059899
出願日： 1999年08月24日
公開日（公表日）： 2001年03月06日
要約：

【要約】【課題】 X線検査装置等に用いる、X線を可視光に変換する高分解能なX線蛍光体を得るためのX線蛍光体製作方法及びX線蛍光体形成用基板を提供することを目的とする。【解決手段】 基板103に対し、蒸着源106、107と、ターゲット109が設置されているスパッタ源108より、ガスを導入しながら既定の圧力下で成膜を行うことで、光の拡散を防ぐ構造を持ち、画像処理しやすい発光スペクトルを有するX線蛍光体を作製することが可能となる。

請求項（抜粋）：

よう化セシウム(CsI )を主成分としCsI に対し付加物質を加えるX線蛍光体の製作方法において、CsI を蒸着で、付加物質をスパッタで形成することを特徴とするX線蛍光体製作方法。

IPC (4件)：

G21K 4/00 ,  C09K 11/02 ,  C09K 11/08 ,  C09K 11/61 CPF

FI (4件)：

G21K 4/00 M ,  C09K 11/02 A ,  C09K 11/08 G ,  C09K 11/61 CPF

Fターム (24件)：

2G083AA02 ,  2G083AA09 ,  2G083BB01 ,  2G083CC02 ,  2G083CC04 ,  2G083DD01 ,  2G083DD02 ,  2G083DD11 ,  2G083DD12 ,  2G083DD14 ,  2G083DD15 ,  2G083EE02 ,  4H001CA08 ,  4H001CC01 ,  4H001CC05 ,  4H001CC11 ,  4H001XA53 ,  4H001XA55 ,  4H001YA03 ,  4H001YA11 ,  4H001YA19 ,  4H001YA37 ,  4H001YA49 ,  4H001YA81

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 蛍りん光体の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-195318   出願人：ミネソタマイニングアンドマニュファクチャリングカンパニー