特許

J-GLOBAL ID：200903018204753050

レジスト剥離液およびこれを用いたレジストの剥離方法

発明者： 菊池 廣 ,  佐野 靖 ,  轟 悟 ,  岡 齊 ,  小下 敏之 ,  菊地 雅人 ,  中谷 光雄 ,  月井 教男
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 富田 和子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-271931
公開番号（公開出願番号）：特開平5-273768
出願日： 1992年10月09日
公開日（公表日）： 1993年10月22日
要約：

【要約】【目的】ドライ及びウエットエッチングで表層が変質したフォトレジストに対し、剥離残渣を全く発生することなくレジストを剥離できる剥離液、剥離方法の提供に加え、使用後に済的に回収、再生できる剥離液とその方法を提供すること目的とする。【構成】本発明では、ほとんど純粋なアミノアルコールをレジスト剥離液として使用する。本発明に適した剥離液としては一級脂肪族アミノアルコールの90重量%以上の純度のものであり、好ましい作業条件は室温乃至90°Cの温度範囲で、浸漬、スプレー、超音波剥離である。さらに本発明に適した再生方法は蒸留による回収である。【効果】各種の電子素子の製造時の欠陥を著しく低減することが可能となり、従来方法による場合に比べ格段に歩留りを向上できるのに加え、安価な剥離コストを実現できるので、低価格で信頼性に優れた電子装置が提供できるようになる。

請求項（抜粋）：

一級アミノ基を有する脂肪族アミノアルコールを80重量%以上の濃度で含むことを特徴とするレジスト剥離液。

IPC (6件)：

G03F 7/42 ,  C09D 9/00 PSS ,  C23F 1/00 104 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/302 ,  H05K 3/06

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開昭63-163352
  
• 特開昭62-095531