熱収縮率の小さいガラス基板の製造方法

発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-120900
公開番号（公開出願番号）：特開平9-278465
出願日： 1996年04月17日
公開日（公表日）： 1997年10月28日
要約：

【要約】【課題】 p-SiTFT液晶ディスプレイ用として、デバイス作製時に600°C以上の熱処理に曝されても熱収縮が小さく、具体的には、600°Cで10時間の熱処理を施しても、熱収縮率が40ppm以下であるガラス基板を製造する方法を提供することを目的とする。【解決手段】ガラス板を、その歪点以下、歪点-50°C以上の温度で10時間以上保持した後、2°C/分以下の速度で冷却することを特徴とする。

請求項（抜粋）：

ガラス板を、その歪点以下、歪点-50°C以上の温度で10時間以上保持した後、2°C/分以下の速度で冷却することを特徴とする熱収縮率の小さいガラス基板の製造方法。

IPC (2件)：

C03B 25/00 , G02F 1/1333 500

FI (2件)：

C03B 25/00 , G02F 1/1333 500

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