特許

J-GLOBAL ID：200903018207383343

露光方法及び装置

発明者： 間 潤治
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 大森 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-171710
公開番号（公開出願番号）：特開平11-016820
出願日： 1997年06月27日
公開日（公表日）： 1999年01月22日
要約：

【要約】【課題】 大面積の基板に露光を行う場合でも、従来方式に比べて基板の移動範囲を狭くでき、ひいては露光装置の占有面積(フットプリント)を小さくできる露光方法を提供する。【解決手段】 ベース1上にY方向に移動自在にプレート3を保持するプレートステージ2が載置され、プレート3上に架設された光学系用ガイド5,6に沿ってX方向に移動自在に光学系移動台7が配置され、光学系移動台7に投影光学系8、及び照明系9が固定されている。照明系9と投影光学系8との間に架設されたマスク用ガイド11,12に沿ってX方向に移動自在にマスク14を保持するマスクステージ13が載置されている。プレート3をY方向にステップ移動し、マスク14をX方向にステップ移動した後、照明系9及び投影光学系8をマスク14に対して走査して露光を行う。

請求項（抜粋）：

照明系からの所定の露光エネルギービームのもとでマスクに形成されたパターンの像を投影光学系を介して基板上に露光する露光方法において、前記基板の表面を所定の第1方向にn個(nは2以上の整数)で、前記第1方向に交差する第2方向にm個(mは2以上の整数)の複数の転写領域に分割し、該複数の転写領域中の第1の転写領域に露光する際に、該転写領域上に前記マスクのパターンの一部の像を投影した状態で前記照明系及び前記投影光学系を前記マスク及び前記基板に対して一次元的に同期移動して走査露光を行い、前記第1の転写領域に対して前記第1方向に配列された第2の転写領域に露光する際に前記マスクを前記第1方向にステップ移動してから走査露光を行い、前記第1の転写領域に対して前記第2方向に配列された第3の転写領域に露光する際に前記基板を前記第2方向にステップ移動してから走査露光を行うことを特徴とする露光方法。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 7/22

FI (4件)：

H01L 21/30 516 B ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 7/22 H ,  H01L 21/30 518