特許
J-GLOBAL ID:200903018208956347

真空下で金属加工物を熱処理する装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 川和 高穂
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-085955
公開番号(公開出願番号):特開平8-285462
出願日: 1996年03月15日
公開日(公表日): 1996年11月01日
要約:
【要約】【課題】 浸炭条件の変化によって残りの装入物に影響を与えることなく、異なる表面焼き入れ深さを有する種々の装入物間で柔軟な変更を可能にする、真空下で金属加工物を熱処理する装置を提供する。【解決手段】 環状の回転炉床並びに装入室(2)と抽出室(7)を備えた回転炉(5)を用いて真空下で金属加工物を熱処理する装置であって、装入物(1)は回転炉床によって種々の加工位置へ移動可能であり、かつ回転炉(5)は拡散プロセスのための真空炉として形成されており、回転炉(5)の周囲に沿って少なくとも装入室(2)と抽出室(7)の間に少なくとも1つの浸炭炉室が配置されており、その中へ浸炭処理のために装入物(1)を挿入することができる。
請求項(抜粋):
環状の回転炉床と装入室(2)と抽出室(7)とを備えた回転炉(5)を用いて真空下で金属加工物を熱処理する装置であって、装入物(1)が回転炉床によって種々の処理位置へ移動可能である装置において、前記回転炉(5)が拡散プロセスのための真空炉として形成されており、該回転炉(5)の周囲に沿って、少なくとも前記装入室(2)と前記抽出室(7)との間に少なくとも1つの浸炭炉室(6)が配置されており、その中へ装入物(1)が浸炭処理のために装入可能であることを特徴とする金属加工物を処理する装置。
IPC (6件):
F27B 9/16 ,  C21D 1/00 113 ,  C21D 1/18 ,  C21D 1/773 ,  F27B 9/02 ,  F27B 9/04
FI (7件):
F27B 9/16 ,  C21D 1/00 113 C ,  C21D 1/18 X ,  C21D 1/18 H ,  C21D 1/773 G ,  F27B 9/02 ,  F27B 9/04

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