特許

J-GLOBAL ID：200903018232735106

有機塩素系化合物含有水溶液の処理方法及び装置

発明者： 吉野 潔
出願人/特許権者： 岩崎電気株式会社
代理人 (1件)： 外山 三郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-230659
公開番号（公開出願番号）：特開平8-071548
出願日： 1994年08月31日
公開日（公表日）： 1996年03月19日
要約：

【要約】【目的】設備が簡単でしかも維持が容易で分解効率がよい、排水中の有機塩素系化合物の処理方法及び装置を提供する。【構成】有機塩素系化合物を含有する水溶液への超音波の照射、又は空気の導入、又はこれらの組合せによる曝気により水溶液中の有機塩素系化合物を上部の空間に追い出し、上部の空間に追い出された有機塩素系化合物に紫外線を照射して分解処理する。処理装置は有機塩素系化合物を含有する水溶液5を上部に気相となる空間6を残して収容する容器2と、容器内の上部の空間内において水溶液に接しないように配置された紫外線ランプ3と、容器の近傍に配置され容器内の水溶液に超音波を照射する超音波発生装置4とを具備する。

請求項（抜粋）：

有機塩素系化合物を含有する水溶液への超音波の照射、又は空気の導入、又はこれらの組合せによる曝気により水溶液中の有機塩素系化合物を上部の空間に追い出し、上部の空間に追い出された有機塩素系化合物に紫外線を照射して分解処理することを特徴とする有機塩素系化合物含有水溶液の処理方法。

IPC (6件)：

C02F 1/32 ZAB ,  B01D 19/00 ,  B01D 19/00 ZAB ,  B01D 53/70 ,  C02F 1/20 ZAB ,  C02F 1/36 ZAB