特許
J-GLOBAL ID:200903018257104321

液晶充填方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 渡辺 昇
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-080659
公開番号(公開出願番号):特開平8-262462
出願日: 1995年03月23日
公開日(公表日): 1996年10月11日
要約:
【要約】【課題】 セルへの液晶充填終了後に、吸引ポートからの液晶の漏れを抑制できるととも空気が吸引ポートからセル内へ侵入するのを防止できる方法を提供する。【解決手段】 セル(1)の吸引ポート(7)に真空吸引通路(10)の一端を接続するとともに、セルの導入ポート(6)に液晶供給通路(20)の一端を接続する。この状態で、真空吸引通路と吸引ポートを介してセルの内部空間(5)を真空吸引する。この後、セルの内部空間を真空吸引しながら、加圧液晶を液晶供給通路と導入ポートを介してセルの内部空間に供給する。セルの内部空間への液晶充填が終了した後、加圧液晶の供給を停止するとともに、真空吸引通路の負圧の程度を徐々に緩和して大気圧に戻す。
請求項(抜粋):
次の(イ)〜(ホ)の工程を順に行うことを特徴とする液晶充填方法。(イ)セルの吸引ポートに真空吸引通路の一端を接続するとともに、セルの導入ポートに液晶供給通路の一端を接続する工程。(ロ)上記真空吸引通路の他端に接続された真空吸引手段により、吸引ポートを介してセルの内部空間を真空吸引する工程。(ハ)上記真空吸引手段によりセルの内部空間を真空吸引しながら、液晶供給通路の他端に接続された加圧液晶供給手段により加圧液晶を導入ポートを介してセルの内部空間に供給する工程。(ニ)上記セルの内部空間への液晶充填が終了した後、加圧液晶の供給を停止する工程。(ホ)真空吸引通路をセルの吸引ポートに接続した状態を維持したまま、真空吸引通路に設けられた負圧調整手段により、真空吸引通路の負圧の程度を徐々に緩和して大気圧に戻す工程。

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